Litografia de 7nm da Intel pode ser melhor que 5nm da TSMC

A Intel parece estar bem confiante com seu processo de fabricação em 7 nanômetros (nm), chamado de Intel 4. A informação foi obtida pelo site chinês The Elec, que publicou uma análise preliminar da litografia realizada pela empresa de engenharia reversa IC Knowledge e confirmou o processo como superior ao das concorrentes.

O Intel 4 é a litografia que chegará com os vindouros processadores Meteor Lake em outubro. Essa maneira de produzir chips utiliza raios ultravioleta extremos (EUV), uma técnica capaz de aumentar a densidade dos transistores em relação a outros processos.

Segundo o estudo da IC Knowledge, os 7nm da Intel superam a tecnologia de 5nm da TSMC e chegam a apresentar uma performance similar aos 3 nanômetros da Samsung e da TSMC. O foco da companhia de Santa Clara e dessa litografia parece ser aumentar drasticamente o campo da eficiência energética, algo que faz bastante sentido considerando que os Meteor Lake são CPUs exclusivas de notebooks.

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Intel 4 terá ganhos de 20% em eficiência energética

Os novos processadores Intel que utilizam a litografia de 7nm são produzidos na fábrica D1 em Ohio, nos Estados Unidos, e é estimado que cerca de 40.000 wafers de silício sejam produzidos por mês. A fábrica 34, localizada na Irlanda, também deve receber esses chips em breve, mas atualmente trabalha apenas com unidades de teste.

Informações divulgadas no passado pela Intel revelam que a Intel 4 teria ganhos de eficiência energética em 20%. Um dos incrementos para essa tecnologia será um recurso chamado de PowerVia, que alimenta os transistores ao enviar energia por baixo do chip.

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Os processadores Meteor Lake serão formalmente revelados no evento Intel Innovation, em setembro, com mais informações sobre o processo Intel 4. Além disso, a empresa deve anunciar mais informações sobre outras litografias, como a Intel 20A e 18, baseadas em litografia de 2nm e 1,8nm, respectivamente.

Fonte: TheElec